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　　普通鍍鉻是以硫酸根作催化離子，鍍液成分簡單，容易控制。缺點是電流效率低，覆蓋能力差，鍍層容易產(chǎn)生裂紋，下面同遠表面處理小編來講解一下。

　　復(fù)合鍍鉻同時有硫酸根和氟硅酸根(或者是稀有金屬)兩種催化離子，因面其電流效率較高，可達26%(普通鍍鉻電流效率僅為13%左右)，獲得光亮鍍層的操作范圍寬，鍍液的溫度、電流密度的匹配不像普通鍍鉻那樣要求非常嚴(yán)格，鍍液的覆蓋能力較好，鍍層的裂紋出較細。

　　溶液的濃度也有明顯降低，對六價鉻的廢水處理減輕了壓力。但是這種鍍鉻液腐蝕性強，對陽極，對沒有鉻層的基體都會腐蝕，所以要求陽極含錫量要高，至少達8%，工件墜入要及時取出，因為溶液稀，對金屬雜質(zhì)比較敏感，現(xiàn)在含氟廢水也受到限制使用。